Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

WO2007017089 Art A1 15. Februar 2007

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007017089
Aktenzeichen: EP06776379
Anmeldetag: 24. Juli 2006
Veröffentlichung: 15. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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