Exposure mask, method for producing same, and method for transferring pattern

WO2007017947 Art A1 15. Februar 2007

Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007017947
Aktenzeichen: EP05770649
Anmeldetag: 11. August 2005
Veröffentlichung: 15. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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