High-frequency induction thermal plasma torch and method for synthesizing solid material

WO2007017977 Art A1 15. Februar 2007

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007017977
Aktenzeichen: EP06746237
Anmeldetag: 10. Mai 2006
Veröffentlichung: 15. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/30B01J19/08C03B8/04C03B20/00C03B37/018H05H1/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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