Material for insulating film, method of film formation therefrom and insulating film

WO2007018268 Art A1 15. Februar 2007

Anmelder: National Institute for Materials Science, Taiyo Nippon Sanso Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007018268
Aktenzeichen: EP06782644
Anmeldetag: 10. August 2006
Veröffentlichung: 15. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316C08G83/00C23C16/42H01L21/312H01L21/314H01L21/768H01L23/522

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National Institute for Materials Science
Taiyo Nippon Sanso Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

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🇯🇵 Taiyo Nippon Sanso

Taiyo Nippon Sanso ist ein japanischer Hersteller von Industriegasen und zugehörigen Anlagen, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Der Patentbestand konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie Wärme-, Fertigungs- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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