Method of forming semiconductor layers on handle substrates

WO2007019277 Art A2 15. Februar 2007

Anmelder: California Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007019277
Aktenzeichen: EP06800738
Anmeldetag: 2. August 2006
Veröffentlichung: 15. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: California Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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