Immersion Lithography Objective

WO2007020067 Art A1 22. Februar 2007

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007020067
Aktenzeichen: EP06776879
Anmeldetag: 16. August 2006
Veröffentlichung: 22. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT AG
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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