Photoresist polymer having nano smoothness and etching resistance and resist composition

WO2007020734 Art A1 22. Februar 2007

Anmelder: Lion Corporation, Hyogo Prefecture 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007020734
Aktenzeichen: EP06745662
Anmeldetag: 25. April 2006
Veröffentlichung: 22. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C08F291/00C08F297/00G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Lion Corporation
Hyogo Prefecture
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Lion Corporation

Japanischer Hersteller von Konsumgütern wie Waschmitteln, Kosmetik und Mundhygieneprodukten mit Sitz in Tokio.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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