Plasma processing apparatus

WO2007020810 Art A1 22. Februar 2007

Anmelder: Tohoku University, Tokyo Electron Limited (TEL) 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007020810
Aktenzeichen: EP06782322
Anmeldetag: 4. August 2006
Veröffentlichung: 22. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/511

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tohoku University
Tokyo Electron Limited (TEL)
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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