Method and apparatus for monitoring thickness of conductive coating

WO2007021350 Art A2 22. Februar 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007021350
Aktenzeichen: EP06799925
Anmeldetag: 24. Mai 2006
Veröffentlichung: 22. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G01N25/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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