Apparatus for developing photoresist and method for operating the same

WO2007021654 Art A2 22. Februar 2007

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007021654
Aktenzeichen: EP06800907
Anmeldetag: 7. August 2006
Veröffentlichung: 22. Februar 2007
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/00G03C5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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