Substrate treating apparatus, and for the substrate treating apparatus, method of substrate delivery, program and program storing recording medium

WO2007023639 Art A1 1. März 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007023639
Aktenzeichen: EP06781748
Anmeldetag: 27. Juli 2006
Veröffentlichung: 1. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44H01L21/302H01L21/31H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von