Substrate heating device, coating/development device, and method for heating substrate

WO2007023648 Art A1 1. März 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, OCTEC INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007023648
Aktenzeichen: EP06782087
Anmeldetag: 1. August 2006
Veröffentlichung: 1. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
OCTEC INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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