Projection optical system, exposure apparatus and device manufacturing method

WO2007023665 Art A1 1. März 2007

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007023665
Aktenzeichen: EP06782419
Anmeldetag: 7. August 2006
Veröffentlichung: 1. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G02B17/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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