Dielectric film having abox-type perovskite crystalline structure, capacitor using the dielectric film, and method and system for formation of dielectric film having abox-type perovskite crystalline structure
WO2007023909
Art A1
1. März 2007
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Octec Inc., Ibiden Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007023909
- Aktenzeichen
- EP06796744
- Anmeldetag
- 24. August 2006
- Veröffentlichung
- 1. März 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/822B32B9/00H01G4/12H01L21/314H01L21/8242H01L27/04H01L27/108
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Octec Inc.
Ibiden Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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🇯🇵
Ibiden
Ibiden ist ein japanischer Hersteller elektronischer Materialien mit Sitz in Ogaki, spezialisiert auf IC-Substrate für Halbleiter sowie Keramikprodukte für die Automobil- und Elektronikindustrie.
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Vertreten von
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