Photosensitive resin composition and photosensitive element

WO2007026475 Art A1 8. März 2007

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007026475
Aktenzeichen: EP06781258
Anmeldetag: 19. Juli 2006
Veröffentlichung: 8. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023G03F7/004G03F7/022H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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