Systems and methods for controlling ambient pressure during processing of microfeature workpieces, including during immersion lithography

WO2007027311 Art A2 8. März 2007

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007027311
Aktenzeichen: EP06800129
Anmeldetag: 17. Juli 2006
Veröffentlichung: 8. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B05C11/02H01L21/00B05D3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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