A system and method for obtaining anisotropic etching of patterned substrates

WO2007027907 Art A2 8. März 2007

Anmelder: The Trustees of Columbia University in the City of New York 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007027907
Aktenzeichen: EP06802723
Anmeldetag: 1. September 2006
Veröffentlichung: 8. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: B05D5/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Trustees of Columbia University in the City of New York
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Columbia University

Private Forschungsuniversität in New York City, gegründet 1754, mit umfangreicher Patentaktivität in Medizin, Biotechnologie und Ingenieurwissenschaften.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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