A developer solution for photoresist

WO2007028294 Art A1 15. März 2007

Anmelder: Byd Company Limited 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007028294
Aktenzeichen: EP06741919
Anmeldetag: 19. Mai 2006
Veröffentlichung: 15. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Byd Company Limited
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 BYD

Chinesischer Konzern für Elektromobilität und Batterietechnik mit Sitz in Shenzhen. BYD entwickelt Elektro- und Hybridfahrzeuge, Akkumulatoren sowie Elektronik- und Halbleiterkomponenten.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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