Method of cleaning and process for producing semiconductor device

WO2007029703 Art A1 15. März 2007

Anmelder: Sony Corporation, MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007029703
Aktenzeichen: EP06797457
Anmeldetag: 5. September 2006
Veröffentlichung: 15. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Sony Corporation
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sony Group

Japanischer Technologie- und Unterhaltungskonzern mit Sitz in Tokio. Sony entwickelt Unterhaltungselektronik, Bildsensoren, Spielesysteme sowie Musik- und Filmangebote.

30.400 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

1.434 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von