Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, optical element, and chiral sensor

WO2007029735 Art A1 15. März 2007

Anmelder: WASEDA UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007029735
Aktenzeichen: EP06797539
Anmeldetag: 6. September 2006
Veröffentlichung: 15. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/12C30B29/54G01N1/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: WASEDA UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Waseda University

Waseda University ist eine private japanische Universität mit Sitz in Tokio und breitem ingenieurwissenschaftlichem Forschungsprofil. Das Patentportfolio verteilt sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente, Medizintechnik und Gesundheit sowie Mess- und Werkstofftechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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