Alumina film substrate and its fabrication method

WO2007029754 Art A1 15. März 2007

Anmelder: National Institute for Materials Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007029754
Aktenzeichen: EP06783207
Anmeldetag: 6. September 2006
Veröffentlichung: 15. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/20H01L21/314H01L21/8242H01L21/8246H01L27/105H01L27/108H01L29/78H01L43/08H01L43/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute for Materials Science
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute for Materials Science

Japanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Tsukuba, das auf Materialwissenschaft und Werkstoffforschung spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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