Ion source and plasma processing device

WO2007029777 Art A1 15. März 2007

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007029777
Aktenzeichen: EP06783215
Anmeldetag: 7. September 2006
Veröffentlichung: 15. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01J27/16H01J37/08H01J37/305H01J37/317H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

444 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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