Photomask blank and production method thereof, and photomask production method, and semiconductor device production method

WO2007029826 Art A1 15. März 2007

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007029826
Aktenzeichen: EP06783253
Anmeldetag: 8. September 2006
Veröffentlichung: 15. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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