Apparatus and methods for mask cleaning

WO2007030476 Art A2 15. März 2007

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007030476
Aktenzeichen: EP06802989
Anmeldetag: 5. September 2006
Veröffentlichung: 15. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00B08B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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