Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Einstellung einer Optischen Abbildungseigenschaft Derselben

WO2007031182 Art A1 22. März 2007

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007031182
Aktenzeichen: EP06791645
Anmeldetag: 25. August 2006
Veröffentlichung: 22. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von