Photosensitive composition, pattern-forming material, photosensitive laminate, apparatus for formation of pattern, and method for formation of pattern

WO2007032215 Art A1 22. März 2007

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007032215
Aktenzeichen: EP06797285
Anmeldetag: 1. September 2006
Veröffentlichung: 22. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027G03F7/031G03F7/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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