Substrate-processing apparatus, substrate-processing method, substrate-processing program, and computer-readable recording medium recorded with such program

WO2007032370 Art A1 22. März 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007032370
Aktenzeichen: EP06810084
Anmeldetag: 13. September 2006
Veröffentlichung: 22. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/26G03F7/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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