Semiconductor device and its fabrication method

WO2007034553 Art A1 29. März 2007

Anmelder: FUJITSU LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007034553
Aktenzeichen: EP05785997
Anmeldetag: 22. September 2005
Veröffentlichung: 29. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L21/8238H01L27/092H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJITSU LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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