Electron beam exposure system, and method for cleaning electron beam exposure system
WO2007034659
Art A1
29. März 2007
Anmelder: ADVANTEST CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007034659
- Aktenzeichen
- EP06796931
- Anmeldetag
- 29. August 2006
- Veröffentlichung
- 29. März 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027H01J37/305
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANTEST CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Advantest
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.
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Fachgebiete
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