Field enhanced electrodes for additive-injection non-thermal plasma (ntp) processor

WO2007035182 Art A2 29. März 2007

Anmelder: The Regents of the University of California 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007035182
Aktenzeichen: EP05858485
Anmeldetag: 14. November 2005
Veröffentlichung: 29. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Regents of the University of California
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 University of California

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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