Nano-structured thin film with reduced light reflection

WO2007035794 Art A2 29. März 2007

Anmelder: Eastman Kodak Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007035794
Aktenzeichen: EP06814996
Anmeldetag: 18. September 2006
Veröffentlichung: 29. März 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/11G02B1/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Eastman Kodak Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Eastman Kodak

US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Rochester (New York), traditionell führend in Fotografie- und Bildgebungstechnik. Aktiv in Drucktechnologien, Filmmaterialien sowie chemischer und optischer Bildverarbeitung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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