Photomask blank and process for producing the same, process for producing photomask, and process for producing semiconductor device

WO2007037383 Art A1 5. April 2007

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007037383
Aktenzeichen: EP06798459
Anmeldetag: 29. September 2006
Veröffentlichung: 5. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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