Actively heated aluminum baffle component having improved particle performance and methods of use and manufacture thereof

WO2007037955 Art A2 5. April 2007

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007037955
Aktenzeichen: EP06803308
Anmeldetag: 11. September 2006
Veröffentlichung: 5. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00B23H9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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