Spin-dependent tunnelling cell and method of formation thereof

WO2007038971 Art A1 12. April 2007

Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc., CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE -CNRS-, STMicroelectronics (Crolles 2) SAS 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007038971
Aktenzeichen
EP05799719
Anmeldetag
20. September 2005
Veröffentlichung
12. April 2007
Rechtsraum
WO
IPC
G11C11/16
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Freescale Semiconductor, Inc.
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE -CNRS-
STMicroelectronics (Crolles 2) SAS
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Freescale Semiconductor

Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.

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