Thin film transistor array substrate fabrication method and thin film transistor array substrate

WO2007039954 Art A1 12. April 2007

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007039954
Aktenzeichen: EP06746944
Anmeldetag: 29. Mai 2006
Veröffentlichung: 12. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336G02F1/1337G02F1/1368H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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