Plasma processing apparatus and plasma processing method

WO2007040110 Art A1 12. April 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007040110
Aktenzeichen: EP06810629
Anmeldetag: 27. September 2006
Veröffentlichung: 12. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/304H01L21/3065H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
TOHOKU UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von