Plasma-assisted vapor phase treatment of low dielectric constant films using a batch processing system

WO2007040856 Art A2 12. April 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007040856
Aktenzeichen: EP06802089
Anmeldetag: 23. August 2006
Veröffentlichung: 12. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/00H01L21/306H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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