Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same

WO2007043240 Art A1 19. April 2007

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007043240
Aktenzeichen: EP06782485
Anmeldetag: 8. August 2006
Veröffentlichung: 19. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/033C08F299/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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