Photomask and exposure method using same

WO2007043323 Art A1 19. April 2007

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2007043323
Aktenzeichen
EP06798283
Anmeldetag
25. September 2006
Veröffentlichung
19. April 2007
Rechtsraum
WO
IPC
G03F1/08G03F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
V Technology Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

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