Method for depositing multilayer film of mask blank for euv lithography and method for producing mask blank for euv lithography

WO2007043488 Art A1 19. April 2007

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007043488
Aktenzeichen: EP06811470
Anmeldetag: 2. Oktober 2006
Veröffentlichung: 19. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Asahi Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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