Method and system for treating a substrate with a high pressure fluid using a peroxide-based process chemistry in conjunction with an initiator

WO2007044048 Art A2 19. April 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007044048
Aktenzeichen: EP05858598
Anmeldetag: 30. Dezember 2005
Veröffentlichung: 19. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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