Pre-treatment to eliminate the defects formed during electrochemical plating
WO2007044232
Art A2
19. April 2007
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007044232
- Aktenzeichen
- EP06825174
- Anmeldetag
- 28. September 2006
- Veröffentlichung
- 19. April 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C28/00C25D5/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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