A system and method for cleaning a conditioning device
WO2007045267
Art A1
26. April 2007
Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc., STMicroelectronics (Crolles 2) SAS, STMicroelectronics Srl 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007045267
- Aktenzeichen
- EP05808263
- Anmeldetag
- 19. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 26. April 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/04B24B53/007B24B1/04B24B49/10B24B49/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Freescale Semiconductor, Inc.
STMicroelectronics (Crolles 2) SAS
STMicroelectronics Srl - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Freescale Semiconductor
Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.
2.392 Patente in unserer Datenbank
🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
3.785 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.