Photosensitive coating for enhancing a contrast of a photolithographic exposure

WO2007045498 Art A2 26. April 2007

Anmelder: Qimonda AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007045498
Aktenzeichen: EP06792441
Anmeldetag: 20. Oktober 2006
Veröffentlichung: 26. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/095G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Qimonda AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Qimonda

Qimonda war ein deutscher Halbleiterhersteller mit Sitz in München, der 2006 aus dem Speicherchip-Geschäft von Infineon hervorging und 2009 insolvent wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeicherung, insbesondere DRAM- und resistive Speichertechnologien. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus der kurzen Unternehmensgeschichte zwischen 2000 und 2008.

264 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von