Semiconductor device and its fabrication method
WO2007046128
Art A1
26. April 2007
Anmelder: Renesas Technology Corp. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007046128
- Aktenzeichen
- EP05793492
- Anmeldetag
- 17. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 26. April 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L27/105G11C13/00H01L45/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Renesas Technology Corp.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Renesas Technology
Renesas Technology war ein japanischer Halbleiterhersteller und Vorgängerunternehmen der heutigen Renesas Electronics. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Software, ergänzt um Datenspeicher- und Schaltungstechnik. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2009.
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