Substrate treating apparatus, method of substrate treatment, program, and recording medium in which program is recorded

WO2007046204 Art A1 26. April 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007046204
Aktenzeichen: EP06810175
Anmeldetag: 15. September 2006
Veröffentlichung: 26. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L21/02H01L21/205H01L21/768C23C16/14H01L21/3065H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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