Cerium oxide slurry, cerium oxide polishing liquid, and method for polishing substrate by using those

WO2007046420 Art A1 26. April 2007

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007046420
Aktenzeichen: EP06821942
Anmeldetag: 18. Oktober 2006
Veröffentlichung: 26. April 2007
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/00C09K3/14H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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