Mask blank and method for manufacturing transfer mask
WO2007046454
Art A1
26. April 2007
Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007046454
- Aktenzeichen
- EP06812000
- Anmeldetag
- 19. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 26. April 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/08H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HOYA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
701 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.