Self-Aligned Gate Isolation
WO2007046920
Art A1
26. April 2007
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007046920
- Aktenzeichen
- EP06788910
- Anmeldetag
- 27. Juli 2006
- Veröffentlichung
- 26. April 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/8234H01L21/8238
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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