Process and composition for electrochemical mechanical polishing
WO2007047454
Art A2
26. April 2007
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2007047454
- Aktenzeichen
- EP06825926
- Anmeldetag
- 13. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 26. April 2007
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K13/00B23H9/00C25F3/00C09K13/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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